Intel ha sollevato la prima capriata d'acciaio nel suo campus di chip Ohio One, un progetto da 28 miliardi di dollari che ha accumulato almeno cinque anni di ritardo rispetto al programma originale.
L'azienda ha dichiarato che il traguardo segna il passaggio dalle fondamenta alla struttura principale nel sito della contea di Licking, dove Bechtel è l'appaltatore generale. Intel ora indica l'avvio delle attività nel periodo 2030-2031, ben oltre il 2025 che aveva promesso in passato.
L'Ohio slitta mentre l'Arizona avanza
Il piano dell'Ohio fu annunciato nel 2022 come elemento centrale della spinta di Intel a costruire capacità all'avanguardia sul suolo americano. I ritardi nei fondi federali di incentivazione, il calo della domanda di chip e le difficoltà finanziarie della stessa Intel hanno tutti contribuito a spostare la data.
Intel afferma che il suo prossimo fab in Arizona dovrebbe entrare in funzione entro la fine del 2028. L'azienda produce già in volumi elevati con il suo processo più avanzato, il 18A, in un impianto esistente in Arizona dalla fine del 2025.
"Vedere quella prima capriata sollevarsi a Ohio One significa vedere anni di pianificazione diventare realtà", ha detto J.P. Nauseef, amministratore delegato del gruppo statale per lo sviluppo JobsOhio. Ha descritto il campus come uno dei siti di produzione di chip più avanzati al mondo.
La questione dei clienti
Il cemento non equivale ai contratti. L'attività di fonderia di Intel ha faticato a firmare i grandi clienti esterni che rendono redditizio un fab, e gli analisti affermano che per l'azienda, in questo momento, un grande cliente di riferimento conta più di un altro guscio edilizio.
Gli investitori riceveranno un aggiornamento il 29 ottobre, quando Intel pubblicherà i risultati del terzo trimestre. L'azienda ha registrato ricavi di 16,1 miliardi di dollari nel secondo trimestre, in aumento del 25% su base annua, e ha indicato per il terzo trimestre una forchetta tra 15,8 e 16,8 miliardi. Gli analisti intervistati da FiscalAI prevedono 16,47 miliardi e utili di 0,40 dollari per azione.
Perché conta oltre Intel
Washington ha speso miliardi per riportare negli Stati Uniti la produzione avanzata di chip. Intel è l'unica azienda americana che tenta attività di fonderia all'avanguardia su larga scala, quindi le sue tempistiche valgono anche come cartina di tornasole per quella politica. Un fab che parte nel 2031 non aiuterà a fronteggiare le carenze di questo decennio.
L'azienda ha dichiarato che continuerà a spendere con prudenza finché non avrà trovato i clienti di cui ha bisogno, il che significa che il sito dell'Ohio potrebbe continuare a crescere mentre le attrezzature al suo interno attendono gli ordini.
---Passaggio rotante sottovuoto a ferrofluido affidabile per la produzione di semiconduttori
Nella produzione di semiconduttori, mantenere l'integrità dell'ultra-alto vuoto durante il movimento rotatorio è critico — dalla crescita di monocristalli di silicio e CVD allo sputtering e all'incisione al plasma. Ferrofluid Vacuum Rotary Shaft Feedthrough di FerrofluidTec offre passaggi rotanti ermeticamente sigillati con tassi di perdita fino a 10⁻¹² Pa·m³·s⁻¹, grado di vuoto fino a 10⁻⁶ Pa e diametri dell'albero personalizzabili da 10mm a 100mm. Costruiti con alloggiamenti in acciaio inossidabile non magnetico e alberi in acciaio inossidabile a permeabilità magnetica, questi passaggi forniscono una tenuta affidabile e senza manutenzione per ambienti a vuoto impegnativi. Visitate www.ferrofluidtec.com per saperne di più.